三元名家论坛:原子层沉积技术在有机光电子器件的应用探索

作者:时间:2023-10-17

讲座主题:原子层沉积技术在有机光电子器件的应用探索

专家姓名:段羽

工作单位:吉林大学

讲座时间:2023年10月17日 8:30-10:00

讲座地点:物电学院1511报告厅

主办单位:烟台大学物理与电子信息学院

内容摘要:

钙原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)是一种利用自限制反应在低温下沉积出厚度精确可控且均匀致密的薄膜的技术,它可以实现对柔性光电子器件的高效封装。本报告将介绍我们研究团队围绕ALD开展的关于有机发光二极管(OLED)和钙钛矿光伏器件的薄膜封装,提高其耐水耐氧能力和寿命的研究,以及利用ALD发展的新型电致反光器件等的研究进展。分析了如何优化ALD材料和工艺参数,提高薄膜质量和均匀性的方法,以及ALD实现柔性光电子器件的封装过程中的科学问题和产业应用所面临的挑战。

主讲人介绍:

段羽,吉林大学唐匡特聘教授,博士生导师。聚焦光电子器件结构设计和工艺制备技术,发表论文150余篇,申请专利50余项,担任《Journal electronic materials》责任编辑。作为项目负责人承担了Z装备部,J委科技委等,科技部以及国家自然科学基金等多项国家和省部级项目10余项,并承担了华为和京东方等国内知名企业的低温原子层沉积的技术开发。获中国商业联合会科技进步一等奖,吉林省科技进步一等奖,吉林省教育成果一等奖,入选第七批长白慧谷人才,吉林省青年科技奖,长春市突出贡献专家,吉林省突出贡献专家。

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